等離子uV光解凈化設(shè)備利用高能∪V光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸(DNA)，再通過皇氧進(jìn)行氧化反應(yīng)徹底達(dá)到脫皇及殺滅細(xì)菌的目的。除皇設(shè)備光解催化氧化設(shè)備特制的高能高臭氧紫外線(U光束照射惡皇氣體，使無機(jī)或無機(jī)高分子惡皇化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變?yōu)榈头肿踊衔锘蛲耆V化生成CO2和H2O。

等離子UV光解凈化設(shè)備優(yōu)點(diǎn)

1、無需預(yù)處理：工業(yè)廢氣無需進(jìn)行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等，設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30°℃-95℃之間。

2、除惡臭：能去除揮發(fā)性有機(jī)物(VOC)、無機(jī)物、硫化叁硫醇類等主要污染物，以及種惡味，凈化、脫旻效率較高可達(dá)99%以上，凈化、脫皇效果大大超過國家1993年頒布的惡皇污染物排放標(biāo)準(zhǔn)。

3、適應(yīng)性強(qiáng)：可適應(yīng)高濃度，大氣量，不同工業(yè)廢氣物質(zhì)的凈化處理，可每天24小時(shí)連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定可靠。

4、等離子UV光解凈化設(shè)備無需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動力，使工業(yè)廢氣通過本設(shè)備進(jìn)行分解凈化，無需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。

5、運(yùn)行成本低，設(shè)備無任何機(jī)械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，可節(jié)約大量排風(fēng)能耗。